第七十四章 蚀刻机研制

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光刻机又名：掩模对准曝光机，常用的光刻机是掩膜对准光刻，是制造大规模集成电路的核心装备，每颗芯片诞生之初，都要经过光刻技术锻造，简单地说，光刻机就是把工程师的设计‘刻印’在基底材料硅片上，在23平方厘米的方寸之地集成数十亿晶体管。

光刻机‘刻印’处理过的硅片再经过蚀刻机加工，通过化学反应，物理撞击作用移除废弃‘硅片’上的废弃部分，再经历某些封装工艺，神奇硅片材料变废为宝，变成价值高昂的电子芯片。

因为周兴的关系5纳米级蚀刻极量产可期，光刻机成为众人心中的重中之重，如果光刻机再有所突破，那么芯片领域会和高铁领域一样，突破西方国家封堵完成弯道超车。

“不过什么有话快说，别卖关子。”严教授瞪着周兴，催促地问：

“光刻机我是有研究过，不过，暂时没别的想法。”周兴看了严教授一眼，淡淡地说：

闻言，在场众人面色一松，露出意料之中的神色，脸上又带了一丝遗憾，神色复杂。

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